• 真空热处理系列

  • 真空钎焊/扩散焊系列

  • 真空烧结系列

  • 真空高温高压系列

  • HIP热等静压系列

  • 不锈钢管专用热处理系列

  • 钛合金高温合金专用配套热处理系列

  • 真空氢化系列

  • 碳材料特种生产线设备

  • 连续生产线

  • 半导体晶体生长系列

  • VHSF系列真空高温烧结炉(碳化硅、氮化硅)

    用途:

           主要用于SiC陶瓷制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结、热等静压烧结,也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的烧结。

    优势与特点:

           最高 温度可达到3000℃。

           新型加热室结构,多温区独立控温,温度均匀性好,损耗功率小,更节能。

           进口红外测温仪,测温准确,误差小。

    可选项:

           炉体形式:立式,卧式

           加热方式:电阻加热;感应加热

           冷却方式:自然冷却;气体循环冷却

           真空泵组:进口;国内优质品牌

           目前该设备已形成系列化产品,不在系列范围内的可根据客户要求定制。