VQG系列真空渗碳（渗氮、碳氮共渗）炉-沈阳真空技术研究所有限公司

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半导体晶体生长系列

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VQG系列真空渗碳（渗氮、碳氮共渗）炉

用途：

用于工模具、高速钢等工件表面渗碳、渗氮等处理工艺。

优势与特点：

复合工艺炉，完成渗碳/氮及淬火处理。

新型加热室结构，加热更均匀，损耗功率小，更节能。

炉门配有独特密封结构，确保正负压双方向密封。

采用脉冲方式。

可选项：

1、真空气氛渗碳（渗氮）

2、真空等离子渗碳（渗氮）

地址：沈阳市大东区万柳塘路2号

传真：024-24809927

Email：yb@sy-vac.com

网址：www.sy-vac.com

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