VHSF系列真空高温烧结炉(碳化硅、氮化硅)

用途:

       主要用于SiC陶瓷制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结、热等静压烧结,也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的烧结。

优势与特点:

       最高 温度可达到3000℃。

       新型加热室结构,多温区独立控温,温度均匀性好,损耗功率小,更节能。

       进口红外测温仪,测温准确,误差小。

可选项:

       炉体形式:立式,卧式

       加热方式:电阻加热;感应加热

       冷却方式:自然冷却;气体循环冷却

       真空泵组:进口;国内优质品牌

       目前该设备已形成系列化产品,不在系列范围内的可根据客户要求定制。


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