VCDF系列真空化学气相沉积炉

用途:

       在高温并在真空状态下,通入碳源气体,在高温下产生裂解,沉积到工件上,主要用于C/C的化学气相沉积,使复合材料得到致密化处理。   

可选项:

       1、底装料式  

       2、上装料式


       设备温区大小可根据客户实际需求定制。


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